DPM4P33K
Cornell Dubilier Electronics
Изображения приведены только для справки.
См. Спецификации продукта для информации о продукте.
Купить DPM4P33K с уверенностью от AtechElec.com, 1 год гарантии
См. Спецификации продукта для информации о продукте.
Купить DPM4P33K с уверенностью от AtechElec.com, 1 год гарантии
Запрос цитаты
| Часть № | DPM4P33K |
|---|---|
| производитель | Cornell Dubilier Electronics |
| Описание | CAP FILM 0.33UF 10% 400VDC RAD |
| Статус бесплатного свидания / Статус RoHS | Содержит несоответствие свинца / RoHS |
| Ссылка Цена (в долларах США) | Получение предложения | ||||
Спецификация
Техническая спецификация
| Номинальное напряжение - DC: | 400V |
|---|---|
| Номинальное напряжение - AC: | 220V |
| Толерантность: | ±10% |
| прекращение: | PC Pins |
| Размер / Dimension: | 1.024" L x 0.433" W (26.00mm x 11.00mm) |
| Серии: | DPM |
| Рейтинги: | - |
| упаковка: | Bulk |
| Упаковка /: | Radial |
| Рабочая Температура: | -55°C ~ 105°C |
| Тип установки: | Through Hole |
| Уровень чувствительности влаги (MSL): | 1 (Unlimited) |
| Шаг выводов: | 0.886" (22.50mm) |
| Статус бесплатного свидания / Статус RoHS: | Contains lead / RoHS non-compliant |
| Высота - Сидящая (Макс): | 0.827" (21.00mm) |
| Особенности: | Low ESR, Low ESL |
| диэлектрического материала: | Polypropylene (PP), Metallized |
| Подробное описание: | 0.33µF Film Capacitor 220V 400V Polypropylene (PP), Metallized Radial |
| емкость: | 0.33µF |
| Приложения: | DC Link, DC Filtering; High Frequency, Switching |
| Email: | info@atechelec.com |
Вводить
Мы можем предоставить DPM4P33K, использовать форму цитаты запроса, чтобы запросить DPM4P33K PIRCE и время выполнения заказа.Atech Electronics Профессиональный дистрибьютор электронных компонентов.С 3+ миллионами линейных элементов доступных электронных компонентов может быть доставлена в короткие сроки, а более 250 тысяч деталей в складе на складе для немедленной доставки, что может включать номер детали DPM4P33K. Цена и время за выполнение DPM4P33K в зависимости от количестваТребуется, доступность и склад
