ESR25JZPJ334
LAPIS Semiconductor
Изображения приведены только для справки.
См. Спецификации продукта для информации о продукте.
Купить ESR25JZPJ334 с уверенностью от AtechElec.com, 1 год гарантии
См. Спецификации продукта для информации о продукте.
Купить ESR25JZPJ334 с уверенностью от AtechElec.com, 1 год гарантии
Запрос цитаты
| Часть № | ESR25JZPJ334 |
|---|---|
| производитель | LAPIS Semiconductor |
| Описание | RES SMD 330K OHM 5% 2/3W 1210 |
| Статус бесплатного свидания / Статус RoHS | Без свинца / Соответствует RoHS |
| Ссылка Цена (в долларах США) | Получение предложения | ||||
Спецификация
Техническая спецификация
| Толерантность: | ±5% |
|---|---|
| Температурный коэффициент: | ±200ppm/°C |
| Поставщик Упаковка устройства: | 1210 |
| Размер / Dimension: | 0.126" L x 0.098" W (3.20mm x 2.50mm) |
| Серии: | ESR |
| сопротивление: | 330 kOhms |
| Мощность (Вт): | 0.667W, 2/3W |
| упаковка: | Cut Tape (CT) |
| Упаковка /: | 1210 (3225 Metric) |
| Другие названия: | RHM330KAXCT |
| Рабочая Температура: | -55°C ~ 155°C |
| Количество отмененных: | 2 |
| Уровень чувствительности влаги (MSL): | 1 (Unlimited) |
| Статус бесплатного свидания / Статус RoHS: | Lead free / RoHS Compliant |
| Высота - Сидящая (Макс): | 0.026" (0.65mm) |
| Особенности: | Automotive AEC-Q200, Pulse Withstanding |
| Интенсивность отказов: | - |
| Подробное описание: | 330 kOhms ±5% 0.667W, 2/3W Chip Resistor 1210 (3225 Metric) Automotive AEC-Q200, Pulse Withstanding Thick Film |
| Состав: | Thick Film |
| Email: | info@atechelec.com |
Вводить
Мы можем предоставить ESR25JZPJ334, использовать форму цитаты запроса, чтобы запросить ESR25JZPJ334 PIRCE и время выполнения заказа.Atech Electronics Профессиональный дистрибьютор электронных компонентов.С 3+ миллионами линейных элементов доступных электронных компонентов может быть доставлена в короткие сроки, а более 250 тысяч деталей в складе на складе для немедленной доставки, что может включать номер детали ESR25JZPJ334. Цена и время за выполнение ESR25JZPJ334 в зависимости от количестваТребуется, доступность и склад
